Az egyik magas szintű szilícium -karbid

A könnyűsúlyú gyártási folyamatszilícium -karbidTükrök: A reakció-szinterelés a leghatékonyabb folyamat ennek az anyagnak a tükör anyagként való nagy potenciáljának felismerésére, lehetővé téve a komplex alakú termékek közeli formájának kialakulását, zsugorítás nélkül a szinterezési folyamat során; A minta feldolgozási ideje rövid; Nincs szükség speciális berendezésre, és a szinterelés során nincs szükség nyomásra; A minta méretét alapvetően csak a szintering kemence mérete korlátozza, és a termék majdnem teljesen sűrű. A kutatás áttörései elsősorban a tükörképző módszerek fejlődésére és a tükör felületének optikai feldolgozására támaszkodnak.

1.A TMAH jelentősen javíthatja a zeta potenciáljátszilícium -karbidA por, csökkentse a szuszpenzió viszkozitását, és ezáltal szignifikánsan optimalizálja a iszap reológiai tulajdonságait. Körülbelül 1 0 pH -nál a TMAH hozzáadása a 0 tömegfrakcióiban. 3% és 0. A kísérletekben, amikor 0,6% TMAH -t adtak a SIC különböző térfogat -frakcióival rendelkező Slurs -hez, akkor az optimális teljesítményt sikerült elérni, és a slurry viszkozitás elérte a minimumot. A diszpergálószer feleslege növelheti az ionkoncentrációt az ionkoncentrációban, ami a kettős elektromos réteg vastagságának csökkenéséhez vezet, ezáltal súlyosbítva a iszap reológiáját.

Népszerű tags: Az egyik magas szintű szilícium -karbid, Kína az egyik magas szintű szilícium -karbidgyártó, beszállítók, gyár, 600 szemcsés szilícium karbid, Fekete szilícium karbid finom por, Csiszoló csiszoló szilícium karbid, Sic csiszolópor 80 120 szemcsék, Sicpor, Szilícium -karbid 100 szemcsék